新葡萄京娱乐app下载 > 资讯资讯 > 企业公告企业公告

新葡萄京娱乐app下载腐蚀铬则可用酸性硫

发表时间:2016/11/29 8:58:11 阅读次数:

400第十一章 现代化学应用讲座 新葡萄京娱乐app下载腐蚀铬则可用酸性硫酸高铈、碱性高锰酸钾、碱性铁氰化钾或用锌接触硫酸 腐蚀。   8.去胶   经选择性腐蚀后,在被蚀刻的基片表面留下了所需刻制的图案线条,此时作 为保护膜的抗蚀剂已完成了使命,需用适当的溶剂将其除去,或是用其它化学或 机械的方法将残留的抗蚀剂膜除去。这一步即称为去胶。常用的去胶方法有: ①氧化法去胶,即使用浓硫酸、浓硝酸等强氧化剂对光刻胶进行氧化,使胶膜破 坏脱落或炭化,然后除去;或高温加热并通氧氧化,使胶膜氧化分解为水和CO 2 等挥发性物质而除去。②等离子体去胶,用高频放电得到气体等离子体,强烈 地促使抗蚀剂分解氧化成挥发性氧化物而被除去。这是目前最为先进,大有发 展前途的去胶方法。③紫外光分解去胶,光刻胶膜在空


气或氧气流中,用强紫 外光照射,即可分解为挥发性气体而被除去。④去胶剂去胶,去胶剂多为有机 溶剂,可使光刻胶层溶胀或溶解而脱落。   经过上述八个步骤,整个光刻过程就完成了。在微电子器件和集成电路块 的制作工艺中,根据实际需要往往需要进行多次光刻。每次光刻的对象、要求可 能不同,但光刻的原理方法和上述各步骤则基本相同的。 二、光致抗蚀剂的概况   光致抗蚀剂,又称光刻胶,是光刻工艺中必不可少的一种关键材料。依赖光 致抗蚀剂的选择性保护,才能实现选择性的蚀刻。所以现代光刻技术的发展是 以新型光致抗蚀剂的开发和发展为前提的。   光刻胶顾名思义是一种胶体溶液。它的主要成分就是作为光致抗蚀剂起作 用的一种感光性高分子的化合物,亦称为感光性树脂。再加上适当的溶剂,就可 配制胶体溶液。改变溶液中感光性树脂的浓度,就可调节胶液的稠度和粘度,以 符合操作工艺的需要。此


外,在光刻胶中一般还加有少量的添加成分,主要是增 感剂、稳定剂等,以改善光刻胶的使用性能。   感光性树脂的分子结构中含有一定比例的感光性基团,在特定波长的光照 射下,这些对光敏感的部位会发生化学反应,或产生交联,或裂解。依照它们受 光照后所引发的光化学反应的不同类型,可将光刻胶分为正性光刻胶和负性光 刻胶两大类。现分别先容如下:   1.负性光致抗蚀剂   又称负性光刻胶、负性胶或负胶。这是最早实现工业规模生产的,也是目前 用得最广泛,用量最大的一类光刻胶。这类光刻胶在曝光前是以线型高分子状 态存在的,能溶于一定的溶剂,一旦受光照射后,产生了交联,变成不溶性的,因 而称为光固化型的。以这种胶作为光致抗蚀剂进行光刻所得到的

更多新葡萄京娱乐app下载相关常识要点请关注大家微信!

-5低温恒温槽-立式
多用途恒温超声提取机
手提式总有机碳分析仪
XML 地图| Sitemap 地图